Characterization of Plasma-Enhanced CVD Processes: Volume 165 / Najlacnejšie knihy
Characterization of Plasma-Enhanced CVD Processes: Volume 165

Kod: 02059881

Characterization of Plasma-Enhanced CVD Processes: Volume 165

Autor Gerald LucovskyDale E. IbbotsonDennis W. Hess

The MRS Symposium Proceeding series is an internationally recognised reference suitable for researchers and practitioners.

50.22

Dostępność:

50 % szansaOtrzymaliśmy informację, że książka może być ponownie dostępna. Na podstawie państwa zamówienia, postaramy się książkę sprowadzić w terminie do 6 tygodni. Gwarancja pełnego zwrotu pieniędzy, jeśli książka nie zostanie zabezpieczona.
Przeszukamy cały świat

Powiadomienie o dostępności

Dodaj do schowka

Zobacz książki o podobnej tematyce

Podaruj tę książkę jeszcze dziś
  1. Zamów książkę i wybierz "Wyślij jako prezent".
  2. Natychmiast wyślemy Ci bon podarunkowy, który możesz przekazać adresatowi prezentu.
  3. Książka zostanie wysłana do adresata, a Ty o nic nie musisz się martwić.

Dowiedz się więcej

Powiadomienie o dostępności

Powiadomienie o dostępności


Akceptacja - Zgłaszając nam chęć otrzymania powiadomienia, akceptujesz warunki Regulaminu

Będziemy sprawdzać dostępność książki za Ciebie

Wpisz swój adres e-mail, aby otrzymać od nas powiadomienie,
gdy książka będzie dostępna. Proste, prawda?

Więcej informacji o Characterization of Plasma-Enhanced CVD Processes: Volume 165

Za ten zakup dostaniesz 125 punkty

Opis

The MRS Symposium Proceeding series is an internationally recognised reference suitable for researchers and practitioners.

Szczegóły książki

Kategoria Książki po angielsku Technology, engineering, agriculture Mechanical engineering & materials Materials science

50.22

Ulubione w innej kategorii



Osobní odběr Bratislava a 2642 dalších

Copyright ©2008-24 najlacnejsie-knihy.sk Wszelkie prawa zastrzeżonePrywatnieCookies


Konto: Logowanie
Všetky knihy sveta na jednom mieste. Navyše za skvelé ceny.

Nákupní košík ( prázdný )

Nakupte za 59,99 € a
máte doručení zdarma.

Twoja lokalizacja: