Zobacz książki o podobnej tematyce

Więcej informacji o Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications

• Dane szczegółowe
• Opis
• Ulubione w innej kategorii

Za ten zakup dostaniesz 225 punkty

Opis

This monograph condenses the relevant and pertinent literature on blanket and selective CVD of tungsten (W) into a single manageable volume. The book supplies the reader with the necessary background to bring up, fine tune, and successfully maintain a CVD-W process in a production set-up. Materials deposition chemistry, equipment, process technology, developments, and applications are described.

Szczegóły książki

Kategoria Książki po angielsku Technology, engineering, agriculture Electronics & communications engineering Electronics engineering

• Pełny tytuł: Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications
• Autor: John E. J. Schmitz
• Język: Angielski
• Oprawa: Twarda
• Liczba stron: 251
• EAN: 9780815512882
• ISBN: 0815512880
• ID: 04726841
• Wydawca: William Andrew
• Waga: 470 g
• Wymiary: 229 × 152 × 18 mm
• Data wydania: 31. December 1992

Ulubione w innej kategorii

---

---

---