Stress-Induced Phenomena in Metallization / Najlacnejšie knihy
Stress-Induced Phenomena in Metallization

Kod: 01391230

Stress-Induced Phenomena in Metallization

Autor Paul S. Ho, Ehrenfried Zschech, Shinichi Ogawa

Stress-induced voiding and electromigration have emerged to become key reliability problems for submicron interconnect metallization. This has led to the First International Stress Workshop on Stress-Induced Phenomena in Metalliza ... więcej

116.52

Zwykle: 116.58 €

Oszczędzasz 0.05 €

Dostępność:

50 % szansaOtrzymaliśmy informację, że książka może być ponownie dostępna. Na podstawie państwa zamówienia, postaramy się książkę sprowadzić w terminie do 6 tygodni. Gwarancja pełnego zwrotu pieniędzy, jeśli książka nie zostanie zabezpieczona.
Przeszukamy cały świat

Powiadomienie o dostępności

Dodaj do schowka

Zobacz książki o podobnej tematyce

Podaruj tę książkę jeszcze dziś
  1. Zamów książkę i wybierz "Wyślij jako prezent".
  2. Natychmiast wyślemy Ci bon podarunkowy, który możesz przekazać adresatowi prezentu.
  3. Książka zostanie wysłana do adresata, a Ty o nic nie musisz się martwić.

Dowiedz się więcej

Powiadomienie o dostępności

Powiadomienie o dostępności


Akceptacja - Zgłaszając nam chęć otrzymania powiadomienia, akceptujesz warunki Regulaminu

Będziemy sprawdzać dostępność książki za Ciebie

Wpisz swój adres e-mail, aby otrzymać od nas powiadomienie,
gdy książka będzie dostępna. Proste, prawda?

Więcej informacji o Stress-Induced Phenomena in Metallization

Za ten zakup dostaniesz 290 punkty

Opis

Stress-induced voiding and electromigration have emerged to become key reliability problems for submicron interconnect metallization. This has led to the First International Stress Workshop on Stress-Induced Phenomena in Metallization held at Cornell University in 1991, and the series has continued to the Tenth Stress Workshop held at The University of Texas at Austin on November 5-7, 2008. This book contains the proceedings of the 10th Stress Workshop.§Following the spirit of the previous workshops, this workshop emphasized new research results and advances in basic understanding on stress induced phenomena in metallization. The goal was to provide a forum for exchange of ideas, bringing into focus the technical and scientific issues and identifying needs and directions for future research. This is reflected in the papers included in the proceedings. A number of papers reported results on electromigration and stress-induced void formation in copper low k interconnects using state-of-the-art methods including in-situ transmission electron microscopy and synchrotron x-ray microdiffraction. These studies demonstrated the metrology development for studying the stress-induced phenomena in copper interconnect structure at the nanoscale. A new topic on nanostructures and future interconnects has also been included in this workshop.

Szczegóły książki

Kategoria Książki po angielsku Mathematics & science Physics Nuclear physics

116.52

Ulubione w innej kategorii



Osobní odběr Bratislava a 2642 dalších

Copyright ©2008-24 najlacnejsie-knihy.sk Wszelkie prawa zastrzeżonePrywatnieCookies


Konto: Logowanie
Všetky knihy sveta na jednom mieste. Navyše za skvelé ceny.

Nákupní košík ( prázdný )

Nakupte za 59,99 € a
máte doručení zdarma.

Twoja lokalizacja: