Mohlo by sa vám tiež páčiť

Viac informácií o knihe Plasma Etching

• Parametre knihy
• Anotácia kniha
• Obľúbené z iného súdka

Nákupom získate 614 bodov

Anotácia knihy

The focus of this book is on the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.

Parametre knihy

Zaradenie knihy Knihy po anglicky Mathematics & science Physics Materials / States of matter

• Celý názov: Plasma Etching
• Podnázov: Fundamentals and Applications
• Autor: Minoru Sugawara
• Jazyk: Angličtina
• Väzba: Pevná
• Počet strán: 356
• EAN: 9780198562870
• ISBN: 019856287X
• ID: 04527765
• Nakladateľ: Oxford University Press
• Hmotnosť: 743 g
• Rozmery: 242 × 163 × 23 mm
• Dátum vydania: 28. May 1998

Obľúbené z iného súdka

---

---

---