Defects in Boron Ion Implanted Silicon / Najlacnejšie knihy
Defects in Boron Ion Implanted Silicon

Kód: 08281630

Defects in Boron Ion Implanted Silicon

Autor W K Wu

The Office of Scientific & Technical Information (OSTI), is a part of the U.S. Department of Energy (DOE) that houses research and development results from projects funded by the DOE. The information is generally an article, tech ... celý popis

53.56 €

Bežne: 54.65 €

Ušetríte 1.10 €


Skladom u dodávateľa
Odosielame za 9 - 15 dní
Pridať medzi želanie

Mohlo by sa vám tiež páčiť

Darujte túto knihu ešte dnes
  1. Objednajte knihu a vyberte Zaslať ako darček.
  2. Obratom obdržíte darovací poukaz na knihu, ktorý môžete ihneď odovzdať obdarovanému.
  3. Knihu zašleme na adresu obdarovaného, o nič sa nestaráte.

Viac informácií

Viac informácií o knihe Defects in Boron Ion Implanted Silicon

Nákupom získate 129 bodov

Anotácia knihy

The Office of Scientific & Technical Information (OSTI), is a part of the U.S. Department of Energy (DOE) that houses research and development results from projects funded by the DOE. The information is generally an article, technical document, conference paper or dissertation. This is one of those publications.

Parametre knihy

Zaradenie knihy Knihy po anglicky Society & social sciences Education

53.56 €

Obľúbené z iného súdka

O tomto obchode



Nákupný poradca
Prehľady
Knihy podľa jazyka
Platba
Doručenie 2.99 €

Osobný odber Bratislava a 12593 dalších

Slovensko
България Hrvatska România Magyarország Polska Česko

Copyright ©2008-26 najlacnejsie-knihy.sk Všetky práva vyhradenéSúkromieCookies

Môj účet: Prihlásiť sa
Všetky knihy sveta na jednom mieste. Navyše za skvelé ceny.

Nákupný košík ( prázdny )

Vyzdvihnutie v Zásielkovni
zadarmo nad 59,99 €.

Nachádzate sa: