Kód: 06439295
Discusses the study of simulating the growth of a thin film by chemical vapour deposition (CVD) processes. This title presents underlying hierarchy of models for low-temperature and low-pressure plasma in order to discuss the proc ... celý popis
126.75 €
Bežne: 144.90 €
Ušetríte 18.16 €
Dostupnosť:
50 % šancaMáme informáciu, že by titul mohol byť dostupný. Na základe vašej objednávky sa ho pokúsime do 6 týždňov zabezpečiť.Zadajte do formulára e-mailovú adresu a akonáhle knihu naskladníme, zašleme vám o tom správu. Postrážime všetko za vás.
Nákupom získate 311 bodov
Discusses the study of simulating the growth of a thin film by chemical vapour deposition (CVD) processes. This title presents underlying hierarchy of models for low-temperature and low-pressure plasma in order to discuss the processes that can be used to implant or deposit thin layers of important materials.
Zaradenie knihy Knihy po anglicky Technology, engineering, agriculture Mechanical engineering & materials Materials science
126.75 €
Osobný odber Bratislava a 2642 dalších
Copyright ©2008-24 najlacnejsie-knihy.sk Všetky práva vyhradenéSúkromieCookies
Nákupný košík ( prázdny )