Fundamentals of III-V Semiconductor MOSFETs / Najlacnejšie knihy
Fundamentals of III-V Semiconductor MOSFETs

Kód: 09161833

Fundamentals of III-V Semiconductor MOSFETs

Autor Serge Oktyabrsky, Peide Ye

Fundamentals of III-V Semiconductor MOSFETs presents the fundamentals and current status of research of compound semiconductor metal-oxide-semiconductor field-effect transistors (MOSFETs) that are envisioned as a future replacemen ... celý popis

214.64


Skladom u dodávateľa v malom množstve
Odosielame za 12 - 15 dní

Potrebujete viac kusov?Ak máte záujem o viac kusov, preverte, prosím, najprv dostupnosť titulu na našej zákazníckej podpore.


Pridať medzi želanie

Mohlo by sa vám tiež páčiť

Darujte túto knihu ešte dnes
  1. Objednajte knihu a vyberte Zaslať ako darček.
  2. Obratom obdržíte darovací poukaz na knihu, ktorý môžete ihneď odovzdať obdarovanému.
  3. Knihu zašleme na adresu obdarovaného, o nič sa nestaráte.

Viac informácií

Viac informácií o knihe Fundamentals of III-V Semiconductor MOSFETs

Nákupom získate 530 bodov

Anotácia knihy

Fundamentals of III-V Semiconductor MOSFETs presents the fundamentals and current status of research of compound semiconductor metal-oxide-semiconductor field-effect transistors (MOSFETs) that are envisioned as a future replacement of silicon in digital circuits. The material covered begins with a review of specific properties of III-V semiconductors and available technologies making them attractive to MOSFET technology, such as band-engineered heterostructures, effect of strain, nanoscale control during epitaxial growth. Due to the lack of thermodynamically stable native oxides on III-V's (such as SiO 2 on Si), high-k oxides are the natural choice of dielectrics for III-V MOSFETs. The key challenge of the III-V MOSFET technology is a high-quality, thermodynamically stable gate dielectric that passivates the interface states, similar to SiO 2 on Si. Several chapters give a detailed description of materials science and electronic behavior of various dielectrics and related interfaces, as well as physics of fabricated devices and MOSFET fabrication technologies. Topics also include recent progress and understanding of various materials systems; specific issues for electrical measurement of gate stacks and FETs with low and wide bandgap channels and high interface trap density; possible paths of integration of different semiconductor materials on Si platform.§

Parametre knihy

Zaradenie knihy Knihy po anglicky Technology, engineering, agriculture Electronics & communications engineering Electronics engineering

214.64

Obľúbené z iného súdka



Osobný odber Bratislava a 2642 dalších

Copyright ©2008-24 najlacnejsie-knihy.sk Všetky práva vyhradenéSúkromieCookies


Môj účet: Prihlásiť sa
Všetky knihy sveta na jednom mieste. Navyše za skvelé ceny.

Nákupný košík ( prázdny )

Vyzdvihnutie v Zásielkovni
zadarmo nad 59,99 €.

Nachádzate sa: